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“最直接的办法是换台光刻机,但我们没有这个条件,这就需要在光掩膜版上下功夫,将原本完整的电路图案给拆开,分为阴阳互补的两块或者四块,这样就得到了两份56纳米间隔的电路图案。”
“单次曝光是56纳米,48纳米制程光刻机的精度和分辨率是不是就可以进行生产作业了?”
“这就是多重曝光技术。”
林天宛如老师给学生上课,教得特别仔细,并且还实操演示了一遍多重曝光技术全过程。
首席工程师杨方才,以及其他光刻工程师都看呆了。
这是什么天才想法?
设备不够,工艺来凑!
怪不得龙芯国际能够生产14纳米轻舟芯片,原来它们学会了多重曝光技术。
姗姗来迟的陈永听着林天的无私授课,快步来到陈星面前道:“陈老弟,这次真的太感谢你了。”