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由于国产联盟的助力，硅业和光刻胶领域的设备不停铺设，目前工厂的生产线已经达到了三条，产能有了显著提升。
除此之外。
光刻胶领域同样有突破。
Arf光刻胶领域，金色品质人才朱明月已经破解了相应技术壁垒，并进行了往下深挖。
目前来说的话，他已经攻克了193纳米曝光波长，可应用于N40nm-14nmPTDLS技术节点的Arf光刻胶。
不过光刻胶领域，可不仅仅只有Arf光刻胶，还有KrF光刻胶、电子束光刻胶、封装光刻胶、I-LINE光刻胶。
只有攻克了五种光刻胶，才算是在光刻胶领域取得成果，不然还是需要依赖进口。
当然了。
除去光刻胶以外，还有显影液、蚀刻液、清洗液等配套溶液，这部分同样有技术壁垒。
