第245章 用多重曝光技術突破16nm製程 (第2/6頁)
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儘管多重曝光技術所帶來的良品率還不盡如人意，但林鵬依然毫不猶豫地支持範宏毅。
並要求炎黃公司必須在每一次光刻機技術有所突破之時，便要將多重曝光技術投入到新光刻機的實際生產中去。
之所以要這樣做，是因爲林鵬深知自己必須始終保持高度警惕，隨時做好被漂亮國ZC的可能，最大限度的做好充分準備。
這也是未雨綢繆地做到最壞的打算，一旦集體電路公司停止爲龍騰科技代工，那麼炎黃公司便可以立刻大規模的利用多重曝光技術，來爲華騰科技生產高製程的處理器。
在半導體行業，每當製程實現新的突破後，量產中都會經歷一段時間的磨合。
在此期間，技術員們都會花費足夠的精力去攻克良品率偏低這個棘手難題。
如果無法切實有效地提升良品率，那麼生產成本便很難獲得有效的控制，並且還會進一步對產能造成不良影響。
這一情況，林鵬心中可謂是一清二楚。
他深知，如果只是貪圖當下那微不足道的些許利益，從而決定削減開支，對未來的風險採取視若無睹的態度。
