第141章 光刻機難麼?一點都不難! (第2/7頁)
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工作時環境要求複雜且苛刻,十公里外的火車震動,都可能會給它的加工精度帶來影響。
光刻機用的反射鏡,其表面的高低誤差,不得超過1納米,即幾個原子的直徑。
還有光源的問題。
散熱的設計。
雙工件工作臺的控制精度。
誤差糾正與自檢測系統等。
每一個的技術細節,都具有極高的難度。
總的製造難度,確實不亞於研製出氫彈。
即便如此。
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工作時環境要求複雜且苛刻,十公里外的火車震動,都可能會給它的加工精度帶來影響。
光刻機用的反射鏡,其表面的高低誤差,不得超過1納米,即幾個原子的直徑。
還有光源的問題。
散熱的設計。
雙工件工作臺的控制精度。
誤差糾正與自檢測系統等。
每一個的技術細節,都具有極高的難度。
總的製造難度,確實不亞於研製出氫彈。
即便如此。