第六十二章 它山之石可以攻玉 (第3/6頁)
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這是中國半導體領域奮進直追最好的時代。
要是到了90年代中期，半導體領域的技術代差過大，難度無疑會提升很多倍！
辦公室上a4紙文件中提到，bg-101步進式光刻機再次得到了改進，分辨率可達1微米。這個數據在當下也是比較先進的。
1978年，美國gca公司推出的步進式光刻機dsw4800，其分辨率也只是達到了1微米而已。該型光刻機在當時是世界上最先進的光刻機，單價高達45萬美元，但各大企業仍趨之若鶩，根本不愁。gca公司進入全盛時期，在其引領下，美國光刻機產業如日中天。
不過，從80年代開始，各大半導體廠商越來越多地選擇rb企業以配套光刻機的光學鏡頭，如尼康、佳能等。在這個過程中，rb企業將本不復雜的光刻機技術摸得一清二楚，並開始了自己的嘗試。
隨着光刻技術的不斷進步，芯片製程越來越小，光刻機技術對光學系統的依賴也越來越重。在這個過程中，以光學元件見長的rb企業逐漸崛起，飛快地從美國人手中奪走市場份額。gca公司最後沒落，並被收購。
趙燁對未來的走勢，洞若觀火。
中國半導體要如何破局，必須要依賴他。
前世，中國光刻機及相關技術之所以進展緩慢，很多相關產品多止步於科研項目，缺乏產線量產驗證也是其主要原因之一。
