第17章 初見技術大牛：大佬你看着光刻機設計的怎麼樣？ (第10/10頁)
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這個光刻機的設計方案是自己綜合了未來幾十年的技術方案後給出的最優設計方案。
用的都是最成熟最科學的設計，同時還保證了效率，精度以及可靠性。
而280納米的曝光精度雖然比起2035年差得遠，但是在這個年代，卻是最先進的。
一旦這款光刻機生產出來，不僅僅可以生產Vcd的解碼芯片，還可以生產其他芯片，包括未來的2G手機芯片，電腦處理器等等。
這款光刻機一旦生產出來，就算三十年後，依然可以生產一些低端芯片。
既然要玩，就玩一次大的，玩一次漂亮的。雖然其中技術難關不少，但是自己腦海裏卻有整套的工藝流程，到時候只要人到齊，徐華盛相信很快這款機器就能製作出來。
