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===山巍[02]挽狂瀾===
光源系統設備驗收階段圓滿完成, 接下來就是高階光刻機的組裝。
除了光源系統、雙工作臺系統和光學系統，餘下零件所需還有更精確的鏡頭組、反射鏡，以及arf光刻膠等, 國內暫時還沒有研發出來。
但這都不是問題。
因爲最艱難的光源系統和雙工作臺系統已經被圓滿攻破, 剩下的arf光刻膠等技術要求很高，可相對來說, 難度係數不是特別大。
林成建也很興奮, 他勉強保持冷靜，對盛明安和陳驚g說：“光源系統設備驗收通過, ic設計部正在攻破20n以下的鰭式場效應晶體管工藝, 儘量保證我們能夠生產出135n工藝以上更高精度的芯片。”
鰭式場效應晶體管是一種防止因高精度工藝而導致晶體管失去開關作用而發明的工藝, 採用3d立體晶體管架構，突破芯片晶體管的22n工藝極限, 不nj;直接作用於光刻機, 而是ic設計工程師必須掌握的一項核心技術。
陳驚g：“那就交給你了。”
“放心，我會盡快解決這個技術難點。”
林成建現在充滿信心，又對盛明安說：“保險起見, 光源系統設備最好趕緊申請專利保護。”
