第50章 光刻機事件 (第3/7頁)
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目前來講世界主流的光刻機的基本結構最關鍵的部件只有三個：光源發射器、用來調整光路和聚焦的光學鏡頭，以及放置硅晶圓的曝光臺。
第一個是光源，必須採用一種特殊的光源，也就是極紫外光，它的波長只有13.5納米，是可見光波長的幾十分之一。
但是，極紫外光源很難製造。
我們中科院其實研究這個光源已經有一段時間了，一直無法突破。
第二個是光學鏡頭，高度精密的光學鏡頭是光刻機的核心部件之一，目前何蘭、倭國、泡菜國，都是生產光學鏡頭的佼佼者。
在這方面我們差距實在太大，一直都是依靠進口的，但是現在以星條旗國爲首的幾個國家從中作梗，我們的研究已陷入停滯。
我舉個例子，比如：何蘭的asml自己不生產鏡頭，但是德意志的卡爾蔡司會專門爲他們提供鏡頭。
這種鏡頭有多精密呢？如果把鏡頭放大到一個地球那麼大，它上面只允許有一根頭髮絲那樣的凸起。
第三個是對準，我們現在所要研製的芯片不是一次曝光就可以完成的，而是必須更換不同的掩膜，進行多次曝光。
芯片的每個元器件之間只允許有幾納米的間隔。
