第50章 光刻機事件 (第4/7頁)
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這就意味着，掩膜和硅晶圓每次對準的誤差，也必須控制在納米級別。曝光完一個區域之後，放置硅晶圓的曝光臺必須快速移動，接着曝光下一個區域。
要在快速移動中實現納米級的對準，這個難度就相當於，你要從眨眼之間，端着一盤菜從北平故宮衝到魔都外灘，同時還要恰好踩到預定的腳印上，並且菜還保持端平不能灑。
這些都是我們所要繼續解決的問題，當然還有後續的一些技術但是相對於以上三個來說，都是可以解決的。
簡單地講我們可以把光刻機看作一臺高精度的底片曝光洗印機，它負責把“底片”，也就是設計好的芯片電路圖曝光到“相片紙”上。
這個“底片”有一個專業名稱，叫做“掩膜”。
而這裏的“相片紙”，就是製造芯片的基底材料硅晶圓；曝光完成後得到的最終“照片”，就是芯片。”龍國中科院光刻機項目領軍人物耀長青說道。
“我說老耀，你跟我揚揚灑灑說了那麼多，都沒說到點子上面。
一句話，在目前技術被封鎖的情況下，能不能突破，或者說能不能短時間突破？”廖啓發院長皺着眉頭說道。
“廖院長，您要是這樣講，我就直說了，以目前的研究進展不能出現奇蹟。
除非能像之前研製‘第六代領航者戰鬥機’一樣，有超級助力，那一切問題自然迎刃而解。”耀長青說道。
