第54章 王總工“授課”（2） (第5/7頁)
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對我的研究有一定的見解，很不錯。”
只見一位模樣瘦小的小姑娘踮着腳尖舉着手“是我，王總工。通過我的理解您的製造圖紙是沒有問題的。”
“哈哈哈，真的感謝這位小姑娘的信任，不過各位能有不同的想法我也是很高興的，科學研究就是要這樣，通過不斷地討論我們才能取得進步。
我現在給你們講解下你們手中製造圖紙最重要地三個部分：
第一個部分是：雙光束ttl對準技術。
該技術主要通過在掩模一側通過精縮物鏡進行測量，該技術能允許連續的倍率控制，具有穩定性好、精度高、速度快等優點。
利用該技術再配上‘超紫外光’能發揮出更大的工作能效。
第二個部分是：場像對準技術。
這種方法也叫視頻圖像處理對準技術（field image alignment，fia），是指在光刻套刻的過程中，掩模圖樣與硅片基板之間基本上只存在相對旋轉和平移，充分利用這一有利條件，結合機器視覺映射技術，利用相機採集掩模圖樣與硅片基板的對位標記信號。
國際上其光源一般是寬帶的鹵素燈，波長在550~800nm。
